STEP基板

ナノスケールに使用できる超平坦面のステップ加工

精密研磨されたサファイア基板を熱処理するとサファイア表面に原子ステップが形成され、ステップ基板となります。
サファイアc面基板においては、通常、原子一層分(約 0.22nm)の高さをもつシングルステップを形成し、お客様が必要とする結晶面・結晶軸のオフ角度にあわせて所定のステップ高さとテラス幅を形成します。

ステップ基板は通常原子一層分の高さを保つため、理論上、c面0.15度オフの場合、テラス幅が80nmであり、0.22nmの高さと80nmのテラス幅を用いたナノスケールとしての用途が期待できます。
従来はDNAなど、ナノの大きさのものを可視化・映像化する際に比較となるものがありませんでしたが、サファイアステップ基板の特長を利用することで、ナノの世界の一定の基準・目安とすることが出来ます。
また、ステップ基板は超平坦面を持つためDNA観察ステージに加え、ナノワイヤー等への応用が期待されます。 これらサファイアステップ基板の特長を利用した製品化等、お気軽にお問い合わせ下さい。

技術紹介

  • 大気中で長期間形状が変化しない
  • 様々な環境(液中、高温下)で測定可能
  • 低コスト(再クリーニングが可能)
  • パーティクル, 凹凸のほぼないテラス面
  • 0.22~10.0 nmの高さのそろったステップ構造
  • テラス幅 約200 nm

期待される用途

  • SPM装置の高さ校正用標準試料
  • ナノステップ表面上での生体試料観察・計測用プレート
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