小型基板洗浄機Wafer Cleaning System

小型基板洗浄機NAMIKI-ECCLEAR

小型基板洗浄機NAMIKI-ECCLEARは直径2インチ未満の小型基板の洗浄・乾燥に特化した装置です。
2インチ未満の小サイズ基板に対して高いレベルの洗浄・乾燥を可能とした世界初の装置となります。
これまで、直径2インチ以上の結晶が得られない新規材料基板やチップ化された基板などの小型基板に対する洗浄はディップ洗浄などに手法が限られていたため、 高い清浄度の達成は困難でした。 このため新規材料基板が2インチサイズとなるまで材料本来の性能を引き出すデバイスは作製不可能でした。
NAMIKI-ECCLEARはこうした小型基板の洗浄に対し、 LED向けサファイア基板の製造などで培われた独自の洗浄ノウハウに加え、 新規に開発した小型基板専用の洗浄・乾燥機構を採用しました。 これらによりNAMIKI-ECCLEARは小型基板に対しても高い洗浄能力を発揮し、 新規材料に関する開発、デバイス化を強力にサポートします。

特徴

小型基板専用ブラシ
小型基板専用ブラシ

小型基板に対して低ダメージで高い付着物除去能力を発揮するブラシを新規開発


特殊スピン乾燥機構
小型基板専用ブラシ

特許出願中の特殊スピン乾燥機構を搭載発塵を抑え、小型基板に対しても ウォーターマークレスの乾燥を実現します。


カスタマイズ対応

対象基板サイズの変更やカセットtoカセットの自動搬送等も対応可能です。 ご要望の仕様がございましたらお気軽にお問合せ下さい。

洗浄対象

GaN、AlN、ダイヤ、サファイア等の結晶材料や光学ガラス、バイオチップ等の洗浄に最適です。

小型基板洗浄機

洗浄室レイアウト

洗浄室レイアウト
  1. 基板搬送
  2. 基板固定
  3. 純水リンス
  4. ブラシ洗浄(洗浄液使用)
  5. メガソニック洗浄
  6. スピン乾燥
  7. 基板搬送

洗浄結果の例

<□5mmサファイア基板>
□5mmサファイア基板 洗浄条件
<□5mmGaN基板>
AFMによる付着物観察 CL観察による僭称検査

基板本来の表面を覆っていた砥粒が洗浄により除去できています。 ダメージが入りやすいGaNに対しても 潜傷が形成されず、ダメージレス洗浄であることが確認されました。

CL・・・カソードルミネッセンス
試料に対し電子線を入射した際の発光。この光を分光することにより、結晶中の欠陥を観察することが可能です。

装置仕様

下記の代表仕様以外にもカスタマイズが可能です。 また、本装置を用いた受託洗浄サービスも行っております。 お気軽にお問い合わせください。

装置名 NAMIKI-ECCLEAR
洗浄方法 枚葉式
ワークサイズ □3~5mm、φ0.5"、φ1" 厚み0.3~1.0mm (その他サイズは応相談)
洗浄時間 (推奨洗浄条件) 2min/枚 (ロードからアンロードまで)
装置構成 基板搬送
スクラブ洗浄 (ブラシ高さ調整可能)
メガソニック洗浄 (周波数:950kHz)
スピン乾燥 (回転数:~3,000rpm)
HEPAフィルター
装置寸法(mm) 480W × 600D × 1,680H
装置重量(kg) 200
ユーティリティ エアーポンプ (外付け):0.5MPa以上
純水 (推奨洗浄条件): 400ml/枚
電源 :100VAC 単相 1,000W

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